納米片催化電解水制氫優(yōu)化！！！

    OER是動力學(xué)速率緩慢的四電子多步驟過程，由于其較高的理論氧化電位導(dǎo)致了電解水過程中高 的能耗，被認(rèn)為是電解水過程的瓶頸反應(yīng)，且OER過程產(chǎn)出的氧氣（O2 ）經(jīng)濟價值較低，與氫氣混合可 能會導(dǎo)致爆炸，因而用具有熱力學(xué)較低氧化電位的陽極反應(yīng)取代OER，從而使全解水槽壓更低的同時 獲得經(jīng)濟價值更高的化工產(chǎn)品的策略引起了廣泛關(guān)注。CHI760E 電化學(xué)工作站，上海辰華儀器有限公司； Bruker D8 Advance X 射線粉末衍射儀（XRD） 和AVANCE 500MHz核磁共振波譜儀（NMR），德國Bruker公司； SU8010掃描電子顯微鏡（SEM），日本 Hitachi 公司； Talos F200X 透射電子顯微鏡（TEM）。

    在電流密度為?10 mA/cm2 下，該耦合系統(tǒng)在超過15 h的持續(xù)通電反應(yīng)中，過電勢 沒有產(chǎn)生明顯的變化，表明了該耦合體系具有優(yōu)異的穩(wěn)定性. 在反應(yīng)過后，陽極側(cè)溶液由無色變?yōu)辄S 色，且CF電極表面沒有氣泡，為了確定溶液中是否存在Cu2+ ，對溶液進行ICP-OES測試，未 檢測出Cu2+ ，證明無CuAZT的合成. 以上現(xiàn)象初步表明K2AZT的成功合成且OER未發(fā)生，即5-AT氧化 偶聯(lián)反應(yīng)成功取代了OER反應(yīng). 同時，在陰極側(cè)CC@WS2 NSs表面出現(xiàn)氣泡，表明H2在陰極 側(cè)生成.